Epitaxial wafer and method for manufacturing same

WO2013057887 Art A1 25. April 2013

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013057887
Aktenzeichen: EP12842405
Anmeldetag: 2. Oktober 2012
Veröffentlichung: 25. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/146H01L21/20H01L21/322H01L27/148

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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