Method for manufacturing thin substrate

WO2013057917 Art A1 25. April 2013

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013057917
Aktenzeichen: EP12842102
Anmeldetag: 15. Oktober 2012
Veröffentlichung: 25. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/13C03B33/02C03C15/00G02F1/1333

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.803 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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