Protective film and composition for preparing same, slurry, and electrical storage device

WO2013058119 Art A1 25. April 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013058119
Aktenzeichen: EP12842049
Anmeldetag: 4. Oktober 2012
Veröffentlichung: 25. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01M2/16H01G9/02H01M10/052

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von