Additive for composition for forming resist underlayer film, and composition for forming resist underlayer film which contains said additive

WO2013058189 Art A1 25. April 2013

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013058189
Aktenzeichen: EP12842250
Anmeldetag: 12. Oktober 2012
Veröffentlichung: 25. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08F20/36C08F220/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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