Radiation-Sensitive Resin Composition
WO2013058250
Art A1
25. April 2013
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013058250
- Aktenzeichen
- EP12842381
- Anmeldetag
- 16. Oktober 2012
- Veröffentlichung
- 25. April 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004C08F220/28C08F220/38C08K5/41C08L33/14G03F7/038G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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