Thin film transistor array substrate and manufacturing method thereof

WO2013058620 Art A1 25. April 2013

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013058620
Aktenzeichen: EP12841870
Anmeldetag: 19. Oktober 2012
Veröffentlichung: 25. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/1368H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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