Electron beam plasma source with segmented beam dump for uniform plasma generation

WO2013059126 Art A1 25. April 2013

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013059126
Aktenzeichen: EP12842545
Anmeldetag: 15. Oktober 2012
Veröffentlichung: 25. April 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/34H05H1/46H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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