Method for manufacturing a protective layer against hf etching, semiconductor device provided with the protective layer and method for manufacturing the semiconductor device
WO2013061313
Art A1
2. Mai 2013
Anmelder: STMicroelectronics S.r.l. 🇮🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013061313
- Aktenzeichen
- EP12799611
- Anmeldetag
- 29. Oktober 2012
- Veröffentlichung
- 2. Mai 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B81C1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- STMicroelectronics S.r.l.
- Land
- 🇮🇹 Italien
🇮🇹
STMicroelectronics Italy
Italienische Konzerngesellschaft des schweizerisch-französischen Halbleiterherstellers STMicroelectronics. Entwickelt und fertigt Halbleiterkomponenten für Automobil-, Industrie- und Konsumelektronik.
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