Gas barrier film including graphene layer, flexible substrate including same, and manufacturing method thereof

WO2013062246 Art A1 2. Mai 2013

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013062246
Aktenzeichen: EP12844399
Anmeldetag: 28. September 2012
Veröffentlichung: 2. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C08J5/18C01B31/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Kunststoff- & Polymertechnik

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