Monomer coupled with thermal acid generator, polymer gained from monomer coupled with thermal acid generator, composition for resist underlayer film including polymer, and method for forming pattern using composition for resist underlayer film

WO2013062255 Art A2 2. Mai 2013

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013062255
Aktenzeichen: EP12843494
Anmeldetag: 12. Oktober 2012
Veröffentlichung: 2. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C07C309/29C08G61/12G03F7/26G03F7/00C07C309/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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