Lithographic apparatus and device manufacturing method

WO2013064298 Art A1 10. Mai 2013

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013064298
Aktenzeichen: EP12762570
Anmeldetag: 14. September 2012
Veröffentlichung: 10. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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