Substrate processing apparatus and substrate processing method

WO2013065429 Art A1 10. Mai 2013

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013065429
Aktenzeichen: EP12845892
Anmeldetag: 27. September 2012
Veröffentlichung: 10. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: B65H23/192G02F1/13G02F1/1333G03F7/20H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verpackungs- & Fördertechnik

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