Substrate processing unit and method for processing substrate
WO2013065451
Art A1
10. Mai 2013
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013065451
- Aktenzeichen
- EP12846409
- Anmeldetag
- 5. Oktober 2012
- Veröffentlichung
- 10. Mai 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/22B65H20/10B65H23/025G03F7/20G03F7/213G03F7/24H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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