Ion beam etching method for magnetic films and ion beam etching apparatus

WO2013065531 Art A1 10. Mai 2013

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013065531
Aktenzeichen: EP12846106
Anmeldetag: 24. Oktober 2012
Veröffentlichung: 10. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23F4/00H01F10/16H01F41/34H01J37/305H01L21/8246H01L27/105H01L43/08H01L43/12H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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