Phenol monomer, polymer for forming a resist underlayer film including same, and composition for a resist underlayer film including same

WO2013066067 Art A1 10. Mai 2013

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013066067
Aktenzeichen: EP12844885
Anmeldetag: 1. November 2012
Veröffentlichung: 10. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C07D311/86C07D495/10C08G61/12G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dongjin Semichem Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von