Wafer surface-treatment method and surface-treatment liquid, and surface-treatment agent, surface-treatment liquid, and surface-treatment method for silicon-nitride-containing wafers

WO2013069499 Art A1 16. Mai 2013

Anmelder: Central Glass Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013069499
Aktenzeichen
EP12847138
Anmeldetag
30. Oktober 2012
Veröffentlichung
16. Mai 2013
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027C09K3/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Central Glass Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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