Wafer surface-treatment method and surface-treatment liquid, and surface-treatment agent, surface-treatment liquid, and surface-treatment method for silicon-nitride-containing wafers
WO2013069499
Art A1
16. Mai 2013
Anmelder: Central Glass Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013069499
- Aktenzeichen
- EP12847138
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2012
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027C09K3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Central Glass Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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