Pretreatment method, graphene forming method and graphene fabrication apparatus

WO2013069593 Art A1 16. Mai 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013069593
Aktenzeichen: EP12848712
Anmeldetag: 5. November 2012
Veröffentlichung: 16. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C01B31/02B01J23/75B01J23/755B01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

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