Composition for forming resist upper layer film, method for forming resist pattern, compound, method for producing compound, and polymer

WO2013069750 Art A1 16. Mai 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013069750
Aktenzeichen: EP12847831
Anmeldetag: 8. November 2012
Veröffentlichung: 16. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07C67/31C07C69/734C08F20/10C08F20/68H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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