Polysiloxazane hydroxide thin-film rinse solution, and polysiloxazane hydroxide thin-film pattern-forming method using same

WO2013069921 Art A1 16. Mai 2013

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013069921
Aktenzeichen: EP12846865
Anmeldetag: 31. Oktober 2012
Veröffentlichung: 16. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C11D7/50C11D7/00H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

596 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von