Mirror system comprising at least one mirror for use for guiding illumination and imaging light in euv projection lithography

WO2013072352 Art A1 23. Mai 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013072352
Aktenzeichen: EP12791732
Anmeldetag: 14. November 2012
Veröffentlichung: 23. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G02B5/09G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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