Projection lens of a microlithographic projection exposure apparatus

WO2013072388 Art A1 23. Mai 2013

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013072388
Aktenzeichen: EP12806352
Anmeldetag: 14. November 2012
Veröffentlichung: 23. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B17/08G02B26/00G02B27/58

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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