System, method and apparatus of a wedge-shaped parallel plate plasma reactor for substrate processing

WO2013074701 Art A1 23. Mai 2013

Anmelder: LAM Research Corporation, Hudson, Eric 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013074701
Aktenzeichen: EP12849001
Anmeldetag: 14. November 2012
Veröffentlichung: 23. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: LAM Research Corporation
Hudson, Eric
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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