Photosensitive resin composition, photosensitive resin film produced using said composition, and electronic component produced using said composition or said film

WO2013077358 Art A1 30. Mai 2013

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013077358
Aktenzeichen: EP12850764
Anmeldetag: 21. November 2012
Veröffentlichung: 30. Mai 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027C08F290/06C08F299/06G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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