Reflective mask blank for euv lithography and production method thereof

WO2013077430 Art A1 30. Mai 2013

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013077430
Aktenzeichen
EP12851283
Anmeldetag
22. November 2012
Veröffentlichung
30. Mai 2013
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027G03F1/24G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Asahi Glass Company, Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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