Gas nozzle for controlling plated membrane thickness and hot-dip apparatus using same
WO2013080910
Art A1
6. Juni 2013
Anmelder: Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013080910
- Aktenzeichen
- EP12852871
- Anmeldetag
- 26. November 2012
- Veröffentlichung
- 6. Juni 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C2/18C23C2/38C23C2/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Metals, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Proterial
Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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