Resist-underlayer-film-forming composition used in multilayer resist process, resist underlayer film, method for forming same, and pattern-formation method

WO2013080929 Art A1 6. Juni 2013

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013080929
Aktenzeichen: EP12854382
Anmeldetag: 26. November 2012
Veröffentlichung: 6. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G65/40G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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