Resist for electron beam and optical lithography

WO2013084247 Art A1 13. Juni 2013

Anmelder: Council of Scientific & Industrial Research 🇮🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013084247
Aktenzeichen: EP12818937
Anmeldetag: 6. Dezember 2012
Veröffentlichung: 13. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/039C07C43/23C07D303/28C07D303/30C08G83/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Council of Scientific & Industrial Research
Land: 🇮🇳 Indien

🇮🇳 Council of Scientific & Industrial Research

Der Council of Scientific & Industrial Research (CSIR) ist eine staatliche indische Forschungsorganisation mit zahlreichen Laboren, deren Patente ein breites Spektrum von Chemie über Pharma bis Werkstofftechnik abdecken.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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