Neutralizing jig, substrate treatment device using same, and method for neutralizing substrate treatment device
WO2013084646
Art A1
13. Juni 2013
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013084646
- Aktenzeichen
- EP12856387
- Anmeldetag
- 7. November 2012
- Veröffentlichung
- 13. Juni 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05F3/04H01L21/02H01L21/677H01T23/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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