Photomask substrate for titania-silica glass euv lithography

WO2013084978 Art A1 13. Juni 2013

Anmelder: Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd., Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013084978
Aktenzeichen: EP12856404
Anmeldetag: 6. Dezember 2012
Veröffentlichung: 13. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C03B8/04C03B20/00C03C3/06G03F1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd.
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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