Inert gas recovery and recycle for silicon crystal growth pulling process

WO2013085907 Art A1 13. Juni 2013

Anmelder: Praxair Technology, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013085907
Aktenzeichen: EP12805547
Anmeldetag: 4. Dezember 2012
Veröffentlichung: 13. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C30B15/00C30B15/20C30B29/06C01B23/00F25J3/02F27D17/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Praxair Technology, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Praxair Technology

US-amerikanisches Unternehmen im Bereich Industriegase, das Verfahren und Technologien zur Gasproduktion entwickelt, heute Teil des Linde-Konzerns.

955 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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