Selective deposition by use of a polymeric mask

WO2013085941 Art A1 13. Juni 2013

Anmelder: Eastman Kodak Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013085941
Aktenzeichen: EP12818685
Anmeldetag: 5. Dezember 2012
Veröffentlichung: 13. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/36H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Eastman Kodak Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Eastman Kodak

US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Rochester (New York), traditionell führend in Fotografie- und Bildgebungstechnik. Aktiv in Drucktechnologien, Filmmaterialien sowie chemischer und optischer Bildverarbeitung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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