Tristate Gate

WO2013087612 Art A1 20. Juni 2013

Anmelder: Soitec 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2013087612
Aktenzeichen
EP12801545
Anmeldetag
11. Dezember 2012
Veröffentlichung
20. Juni 2013
Rechtsraum
WO
IPC
H03K19/094
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Soitec
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

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