Tristate Gate
WO2013087612
Art A1
20. Juni 2013
Anmelder: Soitec 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013087612
- Aktenzeichen
- EP12801545
- Anmeldetag
- 11. Dezember 2012
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H03K19/094
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Soitec
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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