Plasma-treatment apparatus

WO2013088677 Art A1 20. Juni 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Daihen Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013088677
Aktenzeichen: EP12857107
Anmeldetag: 5. Dezember 2012
Veröffentlichung: 20. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Daihen Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von