Plasma treatment device

WO2013088723 Art A1 20. Juni 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Daihen Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013088723
Aktenzeichen: EP12858045
Anmeldetag: 13. Dezember 2012
Veröffentlichung: 20. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/205H01L21/3065H01L21/31H05H1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Daihen Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Daihen

Daihen ist ein japanischer Hersteller von Schweiß- und Automatisierungstechnik sowie Transformatoren mit Sitz in Osaka. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Werkzeug-, Fertigungs- und Drucktechnik sowie elektrische Energietechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

259 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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