Scanning electron beam device and dimension measurement method using same

WO2013088944 Art A1 20. Juni 2013

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013088944
Aktenzeichen: EP12857971
Anmeldetag: 26. November 2012
Veröffentlichung: 20. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/21G01B15/00H01J37/20H01J37/244H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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