Substrate exposure device and substrate exposure method

WO2013089082 Art A1 20. Juni 2013

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013089082
Aktenzeichen: EP12858273
Anmeldetag: 11. Dezember 2012
Veröffentlichung: 20. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02F1/13

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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