Near-infrared absorbing film composition for lithographic application

WO2013090529 Art A1 20. Juni 2013

Anmelder: International Business Machines Corporation, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013090529
Aktenzeichen: EP12858576
Anmeldetag: 13. Dezember 2012
Veröffentlichung: 20. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/11G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: International Business Machines Corporation
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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