Radiation source and method for lithographic apparatus and device manufacture

WO2013092094 Art A1 27. Juni 2013

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013092094
Aktenzeichen: EP12791161
Anmeldetag: 22. November 2012
Veröffentlichung: 27. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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