Substrate processing device, device manufacturing system and device manufacturing method

WO2013094286 Art A1 27. Juni 2013

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013094286
Aktenzeichen: EP12859934
Anmeldetag: 11. Oktober 2012
Veröffentlichung: 27. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B13/24G02B17/08G03F1/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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