Fe-Pt-Based Sputtering Target in Which C Particles Are Dispersed

WO2013094605 Art A1 27. Juni 2013

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013094605
Aktenzeichen: EP12860833
Anmeldetag: 18. Dezember 2012
Veröffentlichung: 27. Juni 2013
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C5/04C22C32/00C22C33/02C22C38/00B22F3/10B22F3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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