Mixed Mode Pulsing Etching in Plasma Processing Systems

WO2013098702 Art A2 4. Juli 2013

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013098702
Aktenzeichen: EP12862122
Anmeldetag: 17. Dezember 2012
Veröffentlichung: 4. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46B44C1/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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