Plasma treatment apparatus

WO2013099133 Art A1 4. Juli 2013

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Daihen Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013099133
Aktenzeichen: EP12861770
Anmeldetag: 13. Dezember 2012
Veröffentlichung: 4. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23C16/509H01L21/205H01L21/31H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Daihen Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von