Substrate treatment device, metal film etching method, and method of manufacturing magnetoresistive element

WO2013099719 Art A1 4. Juli 2013

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013099719
Aktenzeichen: EP12861385
Anmeldetag: 19. Dezember 2012
Veröffentlichung: 4. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46C23F4/00H01L21/205H01L21/302H01L21/3065H01L21/31H01L43/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

421 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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