Radiation-sensitive resin composition, polymer, compound, and method for producing compound
WO2013099998
Art A1
4. Juli 2013
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013099998
- Aktenzeichen
- EP12863050
- Anmeldetag
- 26. Dezember 2012
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/039C07C67/14C07C69/54C07D307/93C07D333/78C08F20/10H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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