Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method, each using the same

WO2013100158 Art A1 4. Juli 2013

Anmelder: FUJI-FILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013100158
Aktenzeichen: EP12863274
Anmeldetag: 18. Dezember 2012
Veröffentlichung: 4. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F12/22C08F220/10G03F7/039H01L21/027C07C313/06C07C313/24C07D233/06C07D233/56C07D235/22C07D267/00C07D295/22C07D401/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI-FILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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