Texture etchant composition for crystalline silicon wafer, and texture etching method

WO2013100318 Art A1 4. Juli 2013

Anmelder: Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013100318
Aktenzeichen: EP12863365
Anmeldetag: 5. September 2012
Veröffentlichung: 4. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongwoo Fine-Chem Co., Ltd.

Südkoreanisches Chemieunternehmen, das optische Folien und Materialien für Displays und Touchscreens herstellt. Patente vor allem im Bereich Display- und Folientechnologie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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