Monomer for a hardmask composition, hardmask composition comprising the monomer, and method for forming a pattern using the hardmask composition

WO2013100409 Art A1 4. Juli 2013

Anmelder: Cheil Industries Inc. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013100409
Aktenzeichen: EP12863735
Anmeldetag: 29. November 2012
Veröffentlichung: 4. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11G03F1/38G03F7/004G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cheil Industries Inc.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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