System and method for extending gas life in a two chamber gas discharge laser system

WO2013101374 Art A1 4. Juli 2013

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013101374
Aktenzeichen: EP12862688
Anmeldetag: 27. November 2012
Veröffentlichung: 4. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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