Outline profile surface roughness measurement device and outline profile surface roughness measurement method
WO2013103070
Art A1
11. Juli 2013
Anmelder: Tokyo Seimitsu Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2013103070
- Aktenzeichen
- EP12864099
- Anmeldetag
- 10. Dezember 2012
- Veröffentlichung
- 11. Juli 2013
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B21/20G01B5/20G01B5/28G01B21/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Seimitsu
Tokyo Seimitsu ist ein japanischer Hersteller von Mess- und Fertigungsgeräten für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Titel betreffen vor allem Bearbeitungsverfahren und -vorrichtungen für die Wafer- und Chipherstellung.
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