Composition for forming passivation film, semiconductor substrate provided with passivation film and method for producing same, and solar cell element and method for producing same

WO2013103140 Art A1 11. Juli 2013

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2013103140
Aktenzeichen: EP12864186
Anmeldetag: 28. Dezember 2012
Veröffentlichung: 11. Juli 2013
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316H01L21/312H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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